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中国制造全球首款采用二维材料的 1 纳米 RISC-V 芯片

​中国科学家成功开发出全球首款基于二维材料的1纳米RISC-V微处理器,名为“Wuji”,集成了5,900个晶体管,厚度不到1纳米。 ​这一突破性成果无需依赖先进的极紫外(EUV)光刻技术,为中国在半导体创新领域开辟了新的独立路径。​该结果已被发布在《自然》杂志中。

随着硅基集成电路在微型化方面接近物理极限,全球研究人员开始转向二维材料,如二硫化钼和二硒化钨,以推动芯片性能的提升。​这些材料通常只有一个原子厚,具备出色的物理特性,使下一代电路的进一步缩放和功能提升成为可能。​

此前,维也纳工业大学在2017年开发的最复杂的二维半导体数字电路仅包含115个晶体管。​而复旦大学的研究团队经过五年的努力,成功将集成度提高了50多倍。​他们在30×30的反相器阵列(共900个)中实现了99.77%的高良率,展示了在原子尺度上保持精确性和均匀性的能力,这对于高制造良率至关重要。​

研究团队表示,这项研究证明了二维半导体在高性能集成电路中的巨大潜力,为未来电子设备的开发提供了新的可能性。​

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中国制造全球首款采用二维材料的 1 纳米 RISC-V 芯片

​中国科学家成功开发出全球首款基于二维材料的1纳米RISC-V微处理器,名为“Wuji”,集成了5,900个晶体管,厚度不到1纳米。 ​这一突破性成果无需依赖先进的极紫外(EUV)光刻技术,为中国在半导体创新领域开辟了新的独立路径。​该结果已被发布在《自然》杂志中。

随着硅基集成电路在微型化方面接近物理极限,全球研究人员开始转向二维材料,如二硫化钼和二硒化钨,以推动芯片性能的提升。​这些材料通常只有一个原子厚,具备出色的物理特性,使下一代电路的进一步缩放和功能提升成为可能。​

此前,维也纳工业大学在2017年开发的最复杂的二维半导体数字电路仅包含115个晶体管。​而复旦大学的研究团队经过五年的努力,成功将集成度提高了50多倍。​他们在30×30的反相器阵列(共900个)中实现了99.77%的高良率,展示了在原子尺度上保持精确性和均匀性的能力,这对于高制造良率至关重要。​

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